━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━  2012. Vol.9 ━━━━━
 
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暑中御見舞い申し上げます

        厳しい暑さが続いておりますが、いかがお過ごしでございましょうか。
         平素はひとかたならぬご厚情にあずかり心から御礼申し上げます。
          酷暑の折から、くれぐれもご自愛のほどお祈り申し上げます。

                             平成24年盛夏
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トピックス

 ■ 最近の特許出願に関する注意事項

著作権法が改正されました

 ■ 海外のお客様の招待を受けて中国企業で講演を行ないました!!

 
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最近の特許出願に関する注意事項 

 ■補正の制限が厳しくなります!

 平成18年特許法改正により、平成1941日以降の特許出願については、所謂「シフト補正禁止」の規定が適用されることとなりました。この規定は従来に比べて非常に厳しい補正の制限を課すものです。

 ■シフト補正とは?

 シフト補正は「発明の特別な技術的特徴(Special Technical Feature:以下STFと略)を変更する補正」と定義されています。STFは「発明の先行技術に対する貢献を明示する技術的特徴」であり、「新規性を有する特徴」に近い概念です。従って請求項に係る発明のSTFの有無は、以下のように判断されます。

<例1>

 先行技術に構成Aのみが開示されている。

・請求項1:構成A  →STFなし

・請求項2:構成A+B→STFあり

 (但し、構成Bが構成Aの単なる設計変更である場合等はSTFなし)

 

■シフト補正に該当する例

 拒絶理由通知を受けた後は、原則的に、以下のような補正は「シフト補正」に該当するとして禁止されます。理由は、補正前請求項1のSTFはアンテナであるのに対し、補正後請求項1のSTFはヒンジであり、補正によりSTFが変更されているためです。

<例2>

「補正前」請求項1:携帯電話用の高感度アンテナ

請求項2:折り畳み携帯電話用のヒンジ

      ↓

拒絶理由通知(請求項1は進歩性無、請求項1と2は単一性無)

   ↓

「補正後」請求項1:折り畳み携帯電話用のヒンジ

請求項2:削除

 

■シフト補正を回避するには?

 上記のような拒絶理由通知を受けた場合、請求項2について権利化するためには、請求項2を分割出願する必要があります。

 

■出願時に注意すべきこと

 発明に多くの特徴がある場合、従来は1つの出願に全ての特徴を盛り込み、審査の結果、ある特徴Aが拒絶されると、補正をして別の特徴Bについて権利化を図ることが可能でした。しかし、今後はこのような補正は原則的に禁止されて分割出願が必要となるため、想定外の手間や費用がかかる場合があります。従って、発明に多くの特徴がある場合、出願当初から特徴毎に別出願とすることが好ましいです。

 ▽シフト補正の詳細はこちらで▽
http://www.kiyopat.com/merumaga(new)/merumaga1.html 

 


著作権法が改正されました

 

1、著作権法の改正

 平成24年、大きく分けて以下の5つの項目について著作権法の改正が行われました。

@いわゆる「写り込み」(付随対象著作物の利用)等に係る規定の整備

A国立国会図書館による図書館資料の自動公衆送信等に係る規定の整備

B公文書等の管理に関する法律等に基づく利用に係る規定の整備

C著作権等の技術的保護手段に係る規定の整備


D違法ダウンロードの刑事罰化に係る規定の整備

2、改正の趣旨

 @〜Cまでは、「文化審議会著作権分科会報告書」等を踏まえ、著作物等の公正な利用を図るとともに著作権等の適切な保護に資するために行ったものです。Dは、著作権法第30条第1項に定める私的使用の目的をもって、有償著作物等の著作権等を侵害する自動公衆送信を受信して行うデジタル方式の録音又は録画を、自らその事実を知りながら行うことにより、著作権等を侵害した者に刑事罰を科すこととするために設けられたものです。

▽著作権法改正の詳細はこちらで▽
http://www.kiyopat.com/merumaga(new)/merumaga2.html


海外のお客様の招待を受けて中国企業で講演を行ないました!!!!

  平成24年4月中旬、中国のアモイにある某台湾系電気部品メーカー(以下、「Xi社」という)の招待を受けて中国のアモイで講演を行ないました。

 Xi社は、8年間で約5万人の従業員を抱える大手企業への躍進を遂げ、さらなる発展途上にあります。
 

 今回の講演は、Xi社の希望により、日本の特許制度の概要説明と、日本の特許制度を巡るトピックスのレクチャーを行なった。当該講演には、Xi社の約30名の知財部職員が出席した。
 レクチャーにおいて、リーマンショック以降の日・米・中の出願件数の推移、日本の出願件数の落ち込みとその原因、将来の展望には、関心が高く、熱心に眼を輝かせて聴いていたことが印象的である。
 また、3月に日本の知財高裁で判決が出された、所謂「切り餅事件」にも関心が示され、事案の概要について、2〜3名から熱心な質問が出され、熱気に包まれた。

 

英語で講演を行なったが、Xi社の担当者が、皆、英語が流暢なのには驚いた。しかも、殆ど留学経験がないとのこと。
 さらに、日本の特許制度の説明については、審判制度(とくに、前置審査)について、米国のアピール制度と比較しての質問や料金について、出席者より質問が出された。とにかく、レクチャー中に私語はまったくなく、米国特許制度及び台湾特許制度のみならず、日本の特許制度についても理解を深めたいという意欲が感じられた。

 


 次いで、アモイより空路ニンボーに赴き、特許事務所(以下、「D事務所)」という)を訪問した。



  

 ここでは、同所の活動の概要の説明を受け、日米中の特許制度の話で花が咲いた。勿論言語は英語である。一人の弁理士が土日の休みには、専ら米欧の特許制度を勉強しているという話を聞き、ここでも中国人の意欲の旺盛さに圧倒され、我々も相当努力をしないと、出願件数で中国に負けているだけでなく、スキル面でもいずれ負けてしまいそうである。
 因みに、昨年の特許出願件数は、米国63万件、中国58万件、日本30万件である。5年前までは日本が世界1位であったが。がんばれニッポン、がんばれニッポン人

            

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